El nuevo diseño de un sistema óptico de litografía de alta apertura numérica (NA) pretende revolucionar la fabricación de chips semiconductores
Japón, 16 de junio de 2026
«Esta tecnología puede tener un impacto transformador en la sociedad, impulsando los centros de datos y el futuro de la IA, y haciendo que la electrónica sea más rápida, más eficiente desde el punto de vista energético y, potencialmente, más económica de poner en práctica», afirma el profesor Tsumoru Shintake al describir las aplicaciones de su sistema óptico de litografía EUV de alta NA.
Shintake ha publicado recientemente un artículo de investigación en JM3 en el que describe las simulaciones ópticas que dieron lugar a sus diseños.
Leer el artículo completo en:
Okinawa Institute of Science and Technology (Japón)
https://www.oist.jp/news-center/news/2026/6/16/new-high-na-lithography-optical-system-design-aims-revolutionize-semiconductor-chipmaking?utm_source=facebook&utm_medium=social&utm_campaign=redesigned-high
Fuente citada:
Facebook de
OIST Okinawa Institute of Science and Technology
Crédito foto:
https://www.pexels.com/es-es/@pixabay/
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